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109与我厂合作研制出国内第一台接触式光刻机简介
中国光刻机技术的起源可以追溯到上世纪六十年代，那是一个科技探索与创新的时代。1966年，中国科学院下属的109厂与上海光学仪器厂携手合作，共同迈出了历史性的一步，成功研制出我国首台65型接触式光刻机。这不仅是技术上的突破，更标志着中国在半导体制造领域的初步探索，当时由上海无线电专用设备厂负责将其推向量产阶段。
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上海光学仪器厂成立71
上海光学仪器厂历任领导
工程师为成都某公司调试
政府批准上光在北京设立
109与我厂合作研制出
北京上光仪器公司